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研究成果
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Scopus著者プロファイル
塚崎 貴司
助教
Assistant Professor(non-tenure-track) 助教
,
先進理工学部
ウェブサイト
https://w-rdb.waseda.jp/html/100003308_ja.html
h-index
7
被引用数
1
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
2019
2023
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(5)
類似のプロファイル
(1)
Pureに変更を加えた場合、すぐここに表示されます。
フィンガープリント
Takashi Tsukasakiが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
1
類似のプロファイル
Photoluminescence
Engineering & Materials Science
100%
Electrons
Engineering & Materials Science
44%
photoluminescence
Physics & Astronomy
43%
Electron traps
Engineering & Materials Science
38%
Growth temperature
Engineering & Materials Science
33%
Molecular beam epitaxy
Engineering & Materials Science
31%
Electron Trap
Chemical Compounds
29%
Hall effect
Engineering & Materials Science
28%
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研究成果
年別の研究成果
2019
2019
2021
2022
2023
2023
4
Article
1
Comment/debate
年別の研究成果
年別の研究成果
Recombination mechanism of heavily Be-doped GaAsN by time-resolved photoluminescence
Tsukasaki, T.
,
Sumikura, H.
,
Fujimoto, T.
,
Fujita, M.
&
Makimoto, T.
,
2023 9月 1
,
In:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films.
41
,
5
, 052702.
研究成果
:
Article
›
査読
Open Access
Photoluminescence
100%
Hole Concentration
47%
photoluminescence
43%
Alloy
43%
life (durability)
41%
Electrical properties of heavily Si-doped GaAsN after annealing
Tsukasaki, T.
,
Mochida, N.
,
Fujita, M.
&
Makimoto, T.
,
2022 1月 15
,
In:
Physica B: Condensed Matter.
625
, 413482.
研究成果
:
Article
›
査読
Electron traps
100%
Electron Trap
75%
Electric properties
56%
Annealing
53%
Conduction bands
45%
1
被引用数 (Scopus)
Correction: Photoluminescence Mechanism in Heavily Si-Doped GaAsN (Crystal Research and Technology, (2021), 56, 3, (2000143), 10.1002/crat.202000143)
Tsukasaki, T.
,
Hiyoshi, R.
,
Fujita, M.
&
Makimoto, T.
,
2021 11月
,
In:
Crystal Research and Technology.
56
,
11
, 2100204.
研究成果
:
Comment/debate
›
査読
Photoluminescence
100%
doped crystals
63%
Electrons
62%
Crystals
61%
photoluminescence
43%
1
被引用数 (Scopus)
Photoluminescence Mechanism in Heavily Si-Doped GaAsN
Tsukasaki, T.
,
Hiyoshi, R.
,
Fujita, M.
&
Makimoto, T.
,
2021 3月
,
In:
Crystal Research and Technology.
56
,
3
, 2000143.
研究成果
:
Article
›
査読
Photoluminescence
100%
photoluminescence
43%
Energy
29%
Energy gap
28%
Optical transitions
25%
1
被引用数 (Scopus)
Si doping mechanism in Si doped GaAsN
Tsukasaki, T.
,
Hiyoshi, R.
,
Fujita, M.
&
Makimoto, T.
,
2019 5月 15
,
In:
Journal of Crystal Growth.
514
,
p. 45-48
4 p.
研究成果
:
Article
›
査読
Growth temperature
100%
Molecular beam epitaxy
96%
Hall effect
84%
Nitrides
74%
Doping (additives)
69%
4
被引用数 (Scopus)