10-nm-wire fabrication in GaAs/AlGaAs MQWs by Cl2 reactive ion beam etching using SiO2 sidewall masks
H. Arimoto*, H. Kitada, Y. Sugiyama, A. Tackeuchi, A. Endo, S. Muto
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H. Arimoto*, H. Kitada, Y. Sugiyama, A. Tackeuchi, A. Endo, S. Muto
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