Analysis of electron beam sensitivity of self-assem bled monolayer resist depending on terminal group

K. Kato*, T. Miyake, Y. Beppu, T. Tanii, I. Ohdomari

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference contribution

フィンガープリント

「Analysis of electron beam sensitivity of self-assem bled monolayer resist depending on terminal group」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。