Characterization of chemically-deposited NiB and NiWB thin films as a capping layer for ULSI application

Tetsuya Osaka*, Nao Takano, Tetsuya Kurokawa, Tomomi Kaneko, Kazuyoshi Ueno

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フィンガープリント

「Characterization of chemically-deposited NiB and NiWB thin films as a capping layer for ULSI application」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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