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Design of element blocks for photoresponsive organosiloxane-based materials
Sufang Guo, Kazuyuki Kuroda,
Atsushi Shimojima
*
*
この研究の対応する著者
先進理工学部
研究成果
:
Chapter
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Design of element blocks for photoresponsive organosiloxane-based materials」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Chemical Compounds
Photoisomerization
57%
Azobenzene
56%
Block Like Crystal
35%
Polycondensation
24%
Nanomaterial
16%
Hydrolysis
16%
Liquid Film
12%
Reaction Yield
10%
Engineering & Materials Science
Azobenzene
100%
Photoisomerization
53%
Polycondensation
20%
Self assembly
17%
Nanostructured materials
16%
Hydrolysis
15%