Effect of fluorine-doping on the dielectric strength of thin SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition

K. Ishii*, A. Takami, Y. Ohki

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フィンガープリント

「Effect of fluorine-doping on the dielectric strength of thin SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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