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研究成果
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Electrical resistivity and microstructures of sputtered Cu
x
Mo
6
S
8
films
B. R. Zhao
*
,
R. Ohtaki
, H. L. Luo, L. D. Flesner
*
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研究成果
:
Article
›
査読
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Electrical resistivity and microstructures of sputtered Cu
x
Mo
6
S
8
films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics & Astronomy
electrical resistivity
69%
electron microscopes
43%
microstructure
64%
preparation
40%
scanning
34%
sputtering
42%
superconducting films
64%
Engineering & Materials Science
Electron microscopes
51%
Microstructure
73%
Scanning
42%
Sputtering
70%
Superconducting films
100%
Chemical Compounds
Electron Particle
19%
Liquid Film
53%
Microstructure
73%
Sputtering
39%