Fabrication of sub-100 nm wires in GaAs/AlGaAs multiquantum well by focused ion beam lithography
H. Arimoto*, H. Kitada, A. Tackeuchi, A. Endho, Y. Yamaguchi, S. Muto
*この研究の対応する著者
研究成果: Paper › 査読
H. Arimoto*, H. Kitada, A. Tackeuchi, A. Endho, Y. Yamaguchi, S. Muto
研究成果: Paper › 査読