Higher-order shear mode FBAR using polarization-inverted layers of (112̄0) textured ZnO films

Miyamoto Yoshinori*, Takahiko Yanagitani, Mami Matsukawa, Yoshiaki Watanabe

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference contribution

1 被引用数 (Scopus)

抄録

Second-order shear mode FBAR using (1120) textured ZnO film was fabricated. This FBAR contained two ZnO layers with opposite polarizations. Crystallites growth directions of the ZnO layers were clarified by X-ray pole figure analysis. Characteristics of this FBAR were experimentally and theoretically investigated.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2005 IEEE Ultrasonics Symposium
ページ1828-1831
ページ数4
DOI
出版ステータスPublished - 2005 12月 1
外部発表はい
イベント2005 IEEE Ultrasonics Symposium - Rotterdam, Netherlands
継続期間: 2005 9月 182005 9月 21

出版物シリーズ

名前Proceedings - IEEE Ultrasonics Symposium
3
ISSN(印刷版)1051-0117

Other

Other2005 IEEE Ultrasonics Symposium
国/地域Netherlands
CityRotterdam
Period05/9/1805/9/21

ASJC Scopus subject areas

  • 音響学および超音波学

フィンガープリント

「Higher-order shear mode FBAR using polarization-inverted layers of (112̄0) textured ZnO films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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