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研究成果
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Initial growth stage of nanoscaled TiN films: Formation of continuous amorphous layers and thickness-dependent crystal nucleation
T. Q. Li
*
,
S. Noda
, H. Komiyama, T. Yamamoto, Y. Ikuhara
*
この研究の対応する著者
研究成果
:
Article
›
査読
14
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Initial growth stage of nanoscaled TiN films: Formation of continuous amorphous layers and thickness-dependent crystal nucleation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Titanium nitride
100%
Partial pressure
83%
Nucleation
73%
Crystals
69%
Reactive sputtering
55%
Substrates
49%
Magnetron sputtering
46%
Chemical Compounds
Crystal Nucleation
97%
Nitride
67%
Partial Pressure
66%
Amorphous Material
48%
Magnetron Sputtering
40%
Liquid Film
33%
Physics & Astronomy
titanium nitrides
84%
partial pressure
67%
nucleation
52%
crystals
34%
interlayers
32%
magnetron sputtering
29%