Over 20-GHz cutoff frequency submicrometer-gate diamond MISFETs

Hiroki Matsudaira*, Shingo Miyamoto, Hiroaki Ishizaka, Hitoshi Umezawa, Hiroshi Kawarada

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抄録

Submicrometer-gate (0.2-0.5-μm) diamond metal-insulator-semiconductor field-effect transistors (MIS-FETs) were fabricated on an H-terminated diamond surface. The maximum transconductance in dc mode reaches 165 mS/mm, while the average transconductance is 70 mS/mm in submicrometer-gate diamond MISFETs. The highest cutoff frequency of 23 GHz and the maximum frequency of oscillation of 25 GHz are realized in the 0.2-μm-gate diamond MISFET. From the intrinsic transconductances or the cutoff frequencies, the saturation velocities are estimated to be 4 × 106 cm/s in the submicrometer-gate FETs. They are reduced by gate-drain capacitance and source resistance.

本文言語English
ページ(範囲)480-482
ページ数3
ジャーナルIEEE Electron Device Letters
25
7
DOI
出版ステータスPublished - 2004 7月

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Over 20-GHz cutoff frequency submicrometer-gate diamond MISFETs」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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