Particle element and size simultaneous measurement using LIBS

Muneaki Wakamatsu*, Satoshi Ikezawa, Toshitsugu Ueda

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抄録

We have developed high-sensitivity in-situ measurement technology based on photons with visible to ultraviolet wavelength bands. This measurement technology builds on plasmatizing particles technology and a high-sensitivity measurement technology for measuring photons from the plasma. Thus, we have established a technology for measuring particle sizes and the constituent element content of particles with 10% accuracy.

本文言語English
ジャーナルIEEJ Transactions on Sensors and Micromachines
127
9
DOI
出版ステータスPublished - 2007

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学
  • 機械工学

フィンガープリント

「Particle element and size simultaneous measurement using LIBS」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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