Reaction analysis of initial oxidation of silicon by UV-light-excited ozone and the application to rapid and uniform SiO2 film growth

Aki Tosaka*, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura, Tetsuya Nishiguchi

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フィンガープリント

「Reaction analysis of initial oxidation of silicon by UV-light-excited ozone and the application to rapid and uniform SiO2 film growth」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy