Self-limiting laser thermal process for ultra-shallow junction formation of 50-nm gate CMOS

Akio Shima*, Hiroshi Ashihara, Toshiyuki Mine, Yasushi Goto, Masatada Horiuchi, Yun Wang, Somit Talwar, Atsushi Hiraiwa

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference contribution

22 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Self-limiting laser thermal process for ultra-shallow junction formation of 50-nm gate CMOS」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Keyphrases

Engineering