Silicon chemical vapor deposition from Si2Cl6 and Si3 Cl8

M. Numata*, M. Kanamori, M. Sugiura, A. Fuwa

*この研究の対応する著者

    研究成果: Conference contribution

    2 被引用数 (Scopus)

    フィンガープリント

    「Silicon chemical vapor deposition from Si2Cl6 and Si3 Cl8」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Engineering & Materials Science