Sub-quarter-micron dual gate CMOSFETs with ultra-thin gate oxide of 2nm

T. Kuroi*, S. Shimizu, S. Ogino, A. Teramoto, M. Shirahata, Y. Okumura, M. Inuishi, H. Miyoshi

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フィンガープリント

「Sub-quarter-micron dual gate CMOSFETs with ultra-thin gate oxide of 2nm」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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