Systematic calibration procedure of process parameters for electromagnetic field analysis of millimeter-wave CMOS devices

K. Takano, K. Katayama, S. Mizukusa, S. Amakawa, T. Yoshida, M. Fujishima

研究成果: Conference contribution

7 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Systematic calibration procedure of process parameters for electromagnetic field analysis of millimeter-wave CMOS devices」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science